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磁控溅射镀膜系统(sputter down & up)
发布日期:2021-03-11

关键词:磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统

                光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜

                红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT

               ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜

 

 

型号:9930,  产地:美国

 

采用“向上” 或“向下”溅射或者二则兼用模式,可以沉积样品的两面。

 

 

可以配置许多不同的工艺腔体,衬底加热、溅射刻蚀腔体。

 

可以加载28个托盘,12x12英寸面积托盘,改变衬底尺寸十分方便。

 

 

对于多层膜沉积,同一设备中DCRF可用。

 

对于连续多层沉积,每一个阴极都有专门的电源。

 

每层膜的厚度通过样品传送速率和溅射源功率来控制。

 

每个电源都有独立的功率控制器

 

 

 

 

9895型号,向下溅射;  应用:单面沉积镀膜

 

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