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团簇系统溅射镀膜系统
发布日期:2021-03-11

关键词:磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统

                光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜

                红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT

               ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜

 

 

高产量,清洗样品、集成处理工艺,改善的工艺控制,低成本购买。

 

用于工艺开发和快速投产,能够简单升级和进行拓展

 

 

配带RF刻蚀及Load lock的多靶DC溅射团簇系统

 

12’’磁控阴极

 

Load Lock + 多靶模式+控制系统和真空泵


“向下溅射”配置


工艺处理室、团簇室、Load Lock均配置低温泵。

 

电脑控制

 

 RF用于衬底刻蚀

 

多步骤顺序真空沉积可以集成到一个团簇系统中

真空集成处理在一个更清洁的真空环境下完成工艺处理

不同工艺步骤中产生的微污染(微粒)和化学污染(暴露与空气导致)可以避免。

也可以采用Loadlock抽气,从而提高投产和周期。

 

 

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