加速器质谱仪
化学束外延
金刚石加工
高能密度物理
光学设计软件
表磁测量仪
MPCVD设备
金刚石应用
电子束蒸镀
磁控溅射
量子结制备
离子减薄仪
您的位置:首页 > 产品信息 > 化学束外延 > 射频等离子设备-用于光学薄膜/半导体晶圆批量生产
射频等离子设备-用于光学薄膜/半导体晶圆批量生产
发布日期:2021-03-11

关键词:磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统

                光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜

                红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT

 

               ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜

 

射频等离子沉积系统:溅射沉积和刻蚀处理, 用于高产出批量生产

Load Lock:抽气能力极强,打开腔体装样不会影响沉积腔体真空度

 

沉积薄膜范围:可以沉积几乎所有薄膜以及进行刻蚀处理

 

多功能模式:DC磁控溅射、RF磁控溅射、RF电极溅射、偏压溅射、

            反应溅射、溅射刻蚀、等离子刻蚀、反应离子刻蚀

 

生产能力强:Al沉积速率高达200nm/min,超过1503英寸晶圆/小时

 

高产出:旋转衬底用于多程沉积,保证高均匀性和每批次可重复性。

 

其他特点:

快速装载,快速抽真空,闭环氦低温泵。

特殊的机械设计专门用于最小化污点和小孔等缺陷的产生。

通过易操作的装载托盘设计降低晶圆破损率。

可重复性高品质薄膜通过干净的高真空环境来保证。

 

生产高品质Al, Al合金, Pt,硅化物,TiWNiAu,氮化硅,二氧化硅,硅铬化合物

 

可以用于光学薄膜、MEMS、半导体晶圆处理、金属膜、非金属膜等应用领域。

 

 

相关产品