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射频溅射设备-用于光学薄膜/半导体晶圆批量生产
发布日期:2021-03-11

关键词:磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统

                光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜

                红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT

 

               ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜

 

RF射频溅射系统

 

全自动粗抽真空泵

 

低温泵:高真空环境,oil free

 

500W 射频源

 

38英寸溅射靶(铂、钛、铝)

 

 

其他特点:

快速装载,快速抽真空,闭环氦低温泵。

 

特殊的机械设计,最小化污点和微孔等缺陷的产生。

 

易操作的装载托盘设计,科降低晶圆破损率。

 

干净的高真空环境,保证可重复性高品质薄膜。

 

 

生产高品质Al, Al合金, Pt,硅化物,TiWNiAu,氮化硅,二氧化硅,硅铬化合物

 

可用于光学薄膜、MEMS、半导体晶圆处理、金属膜、非金属膜等领域。

 

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