关键词：磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统
光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜
红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT
ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜
型号：611，产地：美国
最大化薄膜溅射工艺灵活性，可用于科学家研发或工艺工程师生产。
9个工作台可以接受：RF磁控管，RF二极管，DC磁控管，DC三极管、
平面溅射阴极、RF偏压、RF溅射刻蚀可选...
可以顺序沉积或共溅射沉积九种材料
ION SOURCE可以安装到任何工艺腔体中，
7.5英寸低能量离子束，专门用于衬底预清洗，
可以获得最光滑、均匀的表面，并且不会破坏衬底。
全自动实时工艺控制。
更换溅射靶材十分快捷
钛质 屏蔽罩和样品台：尺寸稳定、重量轻。
旋转衬底保证均匀性和可重复性良好薄膜，可以共沉积。
