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我公司完成清华大学“超高真空磁控溅射及电子束蒸发集成镀膜系统”
发布日期:2015-01-02

经过我公司和原厂工程师一周的安装、调试、培训,圆满地完成了该项目的验收;清华大学用户对该设备整体性能及技术指标十分满意!

 

本次提供给清华大学的设备是由法国公司设计的四腔体超高真空磁控溅射及电子束蒸镀系统,采用Loadlock+UHV共溅射腔体+UHV氧化处理腔体+UHV蒸镀腔体设计,设备几乎可以制备任何金属及氧化物薄膜,目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导结(量子比特和约瑟夫森结)和量子器件,可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。

 

 

设备采用全自动电脑控制,装样之后设置或选择工艺,设备全自动工艺流程控制,用户等待取样即可。设备也支持半自动和手动模式。

今年8月,我们还将在清华大学安装另外一台两腔体电子束蒸镀设备,用户同样使用该设备从事约瑟夫森结的制备!

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