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公司产品一览
发布日期:2016-07-21

薄膜制备及处理(各种PVD/CVD薄膜制备、处理设备)

磁控溅射镀膜设备:多靶、DC/RF、衬底加热,高真空(10-8mbar)、清洗+刻蚀;既有适合实验室样制备设备,也有适合大批量生产设备,例如一次性沉积54个4英寸样品。

电子束蒸镀设备:高真空(10-8mbar)/超高真空(10-10mbar),可旋转/可大角度倾斜(精度和重复性优于0.01°),国内外大量参考用户;可用于约瑟夫森结、shadow evaporation.

离子束溅射沉积:离子束溅射+离子束辅助沉积、OMS(230-1700nm)、均匀性优于±1%@14英寸窗口;可沉积Ta2O5, SiO2, ZrO2, HfO2, Al2O3, TixS1-xO2, HfxS1-xO2, ZrxS1-xO2

高真空CVD设备:结合MBE和CVD优点,可生长III-V半导体薄膜、Si, SixGe1-x, FeSi2以及氧化物薄膜,LiTaO3,  TiO2, Al2O3, 掺铒Al2O3, Y2O3, CdO, HfO2, LiNbO3, MgO, ErSiO, ZnO, ZrO2;适合4-14英寸衬底(均匀性优于+/-2%)、一次性研究厚度和化学成分梯度对材料性能影响、一次性制备3D复杂结构

离子减薄仪(刻蚀机): RIBE,SIMS、真空度10-8mbar、均匀性±4%@100mm晶圆、样品台可旋转/可大角度倾斜、全自动控制;可用于过度金属、PZT、磁性材料处理;最大处理12英寸衬底。

超高真空多功能镀膜设备:两腔、三腔、四腔,load lock+蒸镀+溅射+氧化/清洗/刻蚀,真空度10-9mbar,沉积速率分辨率0.01nm/s,全自动控制;可用于超导约瑟夫森结制备。

高精密光学镀膜设备:热蒸镀+电子束蒸镀+离子束辅助沉积;OMS (DUV, VIS, IR),衬底旋转+倾斜,6英寸样品+高均匀性,全自动控制。

类金刚石(DLC)沉积系统:最大直径可达600mm,激励频率13.56MHz,沉积速率大于10nm/min,8-11.5μm增透膜沉积,胶带测试|橡皮擦测试|海水侵泡测试|盐雾测试|循环温度测试|循环湿度测试。

 

金刚石制备及应用 (各种金刚石制备设备、切割抛光、金刚石应用)

热丝化学气相沉积系统:HFCVD设备,用于金刚石窗口、纳米晶金刚石晶圆制备,12英寸甚至更大面积窗口/薄膜制备。可用于(RF)MEMS, Bio-sensor, 3D结构,电化学等领域。

微波等离子体CVD系统:MPCVD用于合成单晶、多晶金刚石制备,超高纯度(杂质低于1ppb),光学级金刚石窗口合成、电子级单晶及掺杂;用于宝石、单晶刀具、大功率器件、输出窗口、量子计算等。

金刚石及其应用:提供HPHT种子、CVD单晶/光学级窗口/纳米晶晶圆、纳米粒子。

激光切割机:钻石切割、雕刻,切割厚度20mm/直径>100mm;切口宽度及孔径20μm

钻石抛光机:抛光机+抛光液/抛光膏,抛光钻石可获得Ra≈9埃。

首饰钻石仪器:切工等级评定仪、粗钻/精钻分析仪、钻石定心仪(居中)、钻石雕刻机

 

高能密度物理(惯性约束聚变仿真软件、等离子体诊断、靶丸)

模拟仿真软件:辐射流体力学软件、辐射原子光谱分析软件、3D成像及光谱分析软件、3D热辐射及CAD软件、状态方程和不透明度、原子物理数据库、PIC模拟软件;应用于高能密度物理、激光等离子体、放电等离子体、天体物理、Z-pinch、原子物理、ICF、MHD等领域的仿真。

微波干涉仪:Ka/S波段,时间分辨率可达1μS;可用于常压等离子体、真空等离子体、尘埃等离子体、等离子体推进(电子密度测量、等离子体速率测量等)

激光色散干涉仪:时间分辨率可达1nm、等离子体直径100μm-10m、可以测量电子密度/气体密度(液氚/氘)/材料厚度/晶体光学系数等。

原子光谱仪(AES, AAS:波长250-1000 nm;时间分辨率100μs、10ns可选

金刚石靶丸(直径2mm)、金刚石超高功率窗口(1MW不用冷却);

稠密等离子体聚焦装置(DPF是一种稠密、热爆电离气体发出的X射线或中子短脉冲。可应用于极紫外或软X射线光刻;聚变材料测试;材料探测中子源;离子束源;电子束源;X光线照相术。

 

加速器质谱仪(第三代14C AMS年代测量系统)

第三代加速器质谱仪(AMS)具有占地面积小(尺寸3.4×2.6×2m)、耗电少(200KV)、操作简单(全自动)、精度高(优于0.2%, 可与大型AMS比拟)等优点,是全球最先进的商业化小型放射性碳测年系统。

我们还提供完全兼容的AGE3第三代全自动石墨化系统(燃烧+石墨化、全自动、高效率、微剂量、交叉污染<0.1%)、PSP气动压样装置、FED铁制分配器、TSE管密封装置、GID气体电离探测器(氢-锕、100keV- MeV)、GIS气体接口系统、CHS碳酸盐处理系统

 

光电器件设计及仪器(设计软件、材料、检测仪器)

激光设计软件:固体/光纤激光器设计,激光膜层设计,光与物质相互作用,激光传输(考虑湍流)

激光测距仪:光纤激光测距仪用于中长距离、静态动态、多平台(海陆空)、多目标光电及火控系统测量;微型激光测距仪用于UAVs, UGVs 光电应用、测高、飞行位置控制、短程障碍物探测

激光镜镀膜设备:均匀性优于±1%@14英寸窗口

钻石激光器专用:钻石激光晶体/热沉片/输出窗口、金刚石窗口镀增透膜 (可咨询具体指标)

光学分析设计软件:光栅设计软件、衍射光学元件设计、物理光学模拟软件

全光谱太阳模拟器:AAA级、2-12个光谱区域、60-300mm辐照面积、可测量新一代四结太阳能电池

蓝宝石窗口抛光:抛光机+纳米钻石抛光剂,可获得表面粗糙度Ra=1.2nm

复杂系统计划管理软件:用于复杂科学、复杂相关联系统设计流程建模和分析,例如飞机、潜艇、战舰的设计及制造过程中计划及管理,目前包括波音、空客、罗罗公司、美国海军等单位均在使用。

 

 

/磁场软件及仪器

电磁场仿真软件:静电及高压工程模块、电磁铁及永磁铁模块、电子/粒子枪及加速器模块、X射线光源及成像模块、射频及微波技术模块、固体及生物介质传热模块。

金刚石磁力仪:激光功率<150mW, 微波功率:6db(4mW), 带宽:DC-5kHz,灵敏度:5nT/sqrt(Hz)

磁场相机:用一个集成了16384个微霍尔传感器的二维阵列芯片作为探测面,一次性测量一个面上16384个点的磁场分布,得到一幅完整的磁场分布图像(市面上的其他仪器只测量一个点的磁场)。磁场相机可以用于测量磁偏角,可以测量充磁缺陷和磁材缺陷,可以设置强度和磁偏角公差对产品进行流水线测试和筛选,还可以测量永磁转子表磁和进行谐波分析。

3D磁场相机:绘制3D磁场,空间分辨率0.1 x 0.1 mm²,视场12.7 x 12.7 mm²场范围(Bx,By,Bz):+/- 1T,磁场分辨率(Bx,By,Bz)0.1mT,磁场精度:0.5mT@0-100mT0.5%@100-500mT1%@500-1000mT

磁场测量和分析软件:用于实时测量和高级数据分析;

磁铁分析软件:用于单轴永磁铁高级分析;

微型工作台:用于磁铁精密且可重复定位;

高速3轴扫描仪:用于大型磁铁超快测量;

高速转子检测仪:用于永磁转子超快测量。

应用产品及领域: 应用于传感器系统、开关和继电器、电动机、螺线管、磁耦合、麦克风和扬声器、束导系统、波荡器、永磁轴承、测量仪器、科研设备、新型磁性材料的产品开发和诊断,涉及汽车、工业、医学、消费电子、磁铁生产、科学研究等多个领域。

 

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