电子束蒸镀、热蒸镀、离子束辅助沉积、一次性沉积4个6英寸样品

IBAD光学薄膜蒸系统基本配置

真空腔体：0.8-3m, 更大尺寸可定制；

真空系统：粗抽 泵+ 高真空泵

沉 积 源电子束源：6个坩埚, 8kW电源

热蒸发源：2个, 3kW

离子源：考夫曼&罗宾逊 eH400离子源

                 衬底预处理和离子束辅助沉积

衬底工装：可以沉积4个6’’样品

衬底加热：3kW辐射加热系统

膜厚控制：石英晶体、OSM (400-1700nm)

控制系统：Lab/VIEW HMI，PC/PLC控制