双级loadlock更能提高产量，支持三极管和/或平面磁控阴极。

型号：903，产地：美国

Loadlock，

3个靶直流溅射系统

配带RF刻蚀

电脑控制。

3个DC阴极（4.75x14.875英寸）

型号：943，产地：美国

3靶直流溅射系统

加热刻蚀平台，

PC、PLC控制系统，

3个4.75x14.875英寸阴极。

批量溅射沉积系统，专为需求灵活工艺而开发的研发型设备。

3个in-line双向和多程扫描沉积，允许沉积超高质量薄膜。

独特的loadlock提供双层升降梯，辐射加热器。

1500l/s低温泵。

Loadlock高真空泵、污染气体分压十分低，可确保高品质薄膜

包括电脑控制、交互式键盘、CRT显示器。

非常容易输入产生工艺、托盘扫描模式。

DC源、机械泵、低温泵、压缩机安装在设备后面10英寸之外。

型号：902，产地：美国

Loadlock

2个靶

in-line磁控溅射，

容纳12英寸衬底、

PLC和触摸屏控制。

8’’低温泵和水冷压缩机。

RF/DC源，衬底加热刻蚀。