关键词：磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统

                光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜

                红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT

               ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜

N2550是一款全自动设备，配有盒对盒传送机构，非常适用于量产。

          N2550的扩大版，增加腔体体积和样品台容量，最大投产能力全自动生产

·    800mm直径的样品台可以加载大量的衬底，可以最大装载量和批量处理。

·    4个直径10’’平面溅射靶或6个8’’平面溅射靶

·    顺序沉积多层膜或共沉积。

·    数个6x6’’或者直径8’’衬底，均匀性良好。

主腔体由低温泵1400l/s（N2）+ 涡旋泵28m3/h抽气，也可以配置分子泵

标准的自动化抽气控制系统，支持手动操作。

Pirani真空计用于溅射沉积过程中监控主腔体气压