关键词：磁控溅射、PZT、压电材料、N2O5、Ta2O5、光学薄膜、MEMS、微机电系统

                光伏薄膜、LED、OLED、CdS、CdSe、GaN、GaAs、减反膜、增透膜、高反膜

                红外、紫外、可见光、激光膜、金属膜、氧化膜、半导体膜、介质膜、RF、PLT

               ZTO、AZO、透明导电氧化物、ATO、氧化锡锑、TCO、铁电材料、铁磁材料、硬质薄膜

盒对盒式溅射系统，专用于尺寸75mm,100mm,125mm样品处理。也可以进行改造以适合其他样品尺寸。

因其卓越的性能和可靠性，3190盒对盒式溅射系统在工业界拥有优秀的记录。

降低颗粒污染保证品质和产量

为了降低颗粒物产生，真空腔体中所有的运动部件都最小化，并且夹持衬底的上方无运动构件。

衬底任何时候都保持垂直状态、且沉积薄膜时保持静止。这就阻止了微粒的产生并且保证薄膜质量。

3190可以达到每小时90片的高产量。

两个设备在沉积1微米厚的铝膜时仍然能够保持该产出。

根据工艺处理要求，产量可能变化。

3190设备的样品处理和工艺处理通过独立的微处理器全自动进行。