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提供电子束曝光/紫外曝光/深硅刻蚀/等离子刻蚀及测量服务
发布日期:2021-03-11

我公司能够提供下列服务:

 

电子束曝光:制备光刻胶图像作为掩膜,最小可以制备线宽为7nm的图像;

紫外曝光:可以制备不同厚度的光刻胶图像作为掩膜,最小线条为1um;

 

牛津深硅刻蚀,深宽比至少可以达到10:1,可以把250um的硅片刻蚀穿透,且侧壁陡直光滑、不长草;

德国 ICP等离子刻蚀,可以刻蚀各种金属、氧化物、半导体等材料;

 

测试SEM/EDS、台阶仪、椭偏仪器、安捷伦半导体分析仪、AFM、XPS以及划片机(切割硅片、玻璃、蓝宝石等)等

 

欢迎新老客户联系咨询!

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