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离子减薄仪Ion milling (MU 400S)
发布日期:2021-03-11

关键词:RIE、RIBE、反应离子束刻蚀、CAIEB、化学辅助离子束刻蚀、

                过渡金属、磁性材料、MRAM、GMR、TMR、Pt、Cu、TeGe、PZT

 

型号:MU400S;    产地:欧洲;  

应用:过渡金属, PZT, 磁性材料(MRAM, GMR, TMR), Pt, Cu, TeGe ;

代表性用户:法国科学研究中心(CNRS)、意法半导体(ST)

 

基本配置如下:

 
主腔体:采用不锈钢,尺寸650mmx500mmx600mm
           采用干泵+低温泵,真空度≤8×10-8mbar
 
样品台:水冷4英寸,可以旋转(转速可达10rpm),可以0-90°倾斜(精度和可重复性优于0.1°)
 
RF ICP 离子源:1000W,100-1000eV, 束径140mm
均匀性:±4% on 4英寸
 
气路:氩气气路、反应气路(用于反应离子束刻蚀RIBE)
 
监控:SIMS,分子泵+干泵
 
Load Lock:可以加载4英寸衬底,电脑控制电动传动
                 采用干泵+分子泵抽气,真空度可达5x10-7mbar
 
控制系统:全自动控制,半自动和手动模式可用
              支持多级用户权限设置和管理
              支持设备远程操作、监控、诊断和维护
              系统自动报警及定位故障
 
 
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