您的位置:首页 > 产品信息 > CVD金刚石 > 金刚石制备设备 > MPCVD用于大面积金刚石薄膜制备
MPCVD用于大面积金刚石薄膜制备
发布日期:2018-10-31
 
 
 
 
关键词: MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金刚石、微波等离子体化学气相沉积系统
 
             CVD金刚石合成设备、纳米晶金刚石、超纳米晶金刚石、UNCD、NCD、MCD、大面积金刚石窗口
 
              Microwave Plasma Assited/Enhanced Chemical Vapor Deposition System

 

微波等离子化学气相沉积系统特点概述

 

适用范围:生长大面积金刚石薄膜(4-8英寸,甚至更大)

生长速度:可高达μm-几十μm/h,甚至更高;

 

大面积光学级金刚石厚膜生产研究型:

微波功率915MHz36KW / 54kW

反应腔体:铝合金+石英管;

水冷衬底:直径150mm或更大; 衬底旋转可选.

真空系统:干泵+TMP(营造高真空基准)

控制系统:全自动(适合大批量生产);

生长速率:up to 5μm/h, 或更 高速率

整体特点:专门大面积金刚石薄膜研究及生产配置;可获得4’’-8’’光学级金刚石厚膜(several mm thicknesses),也可以用于研究合成diamond dome.

生长大面积光学窗口、探测窗口、微波窗口等,请详细咨询!

 

 

相关产品