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热丝化学气相沉积系统(HFCVD)-纳米晶金刚石薄膜制备
发布日期:2021-03-11

关键词:纳米晶、工具涂层、金刚石涂层、热丝化学气相沉积系统、HFCVD、UNCD、NCD、掺杂

                超纳米晶、金刚石刀具、MEMS、光学窗口、热沉片、cutting tools、微机电系统、B-doping

 

热丝化学气相沉积(Hot Filament Chemical Vapor Deposition System namely HFCVD)方法常常应用于工具表面的金刚石涂层、热沉金刚石片及自支撑超纳米晶金刚石薄膜的合成;其应用于机械工具、微机电系统(MEMS),光学窗口等。

 

我们提供热丝化学气相沉积系统(HFCVD system),适合于:

1. 合成各种厚度和大面积的超纳米晶(ultra-nanocrystalline diamond coating/film/wafer;UNCD)、纳米晶(nanocrystalline diamond coating/film/wafer;NCD)、微米晶(microcrystalline diamond coating/film/wafer;MCD)金刚石;有效沉积面积最大可以达到0.5m2

2. 可以在不同工具形状表面沉积,例如沉积3D diamond coatings 或者diamond dome;

3. 也可以用于掺杂研究(例如B-doping ),或多层膜结构研究及生产;

4. 应用于各种领域,例如cutting tools,metrology,thermal management等。

我们将根据您的需求,提供最适合您应用的配置;购买我们的设备,我们也将提供工艺服务;如果您对我们的设备感兴趣,请联系我们!

 

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