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微波等离子体化学气相沉积系统(MPCVD)
发布日期:2021-03-11

 

   

 

MPCVD方法合成金刚薄膜具有高纯度、均匀性好、面积大等优点,特别是在合成大面积金刚石薄膜方面,是其他方法难以与媲美的。欧美、日本已经能够提供高稳定性MPCVD设备,供科研和生产使用。

Key words: MPCVD system; 高纯度单晶金刚石(SCD);polycrystalline diamond(PCD);超纳米晶金刚石(UNCD);光学窗口/optical window;微波窗口/microwave window;high power;purity;uniformity;homoepitaxial growth;高功率电子器件;掺杂、B-doping;N-doping;微波等离子化学气相沉积设备;金刚石单晶;高功率金刚石窗口;拉曼激光器。

 

我们的微波等离子化学气相沉积设备(MPCVD system)产品特点:

1、独特的腔体设计及耦合方式,为等离子球的均匀性及铺展性提供了可靠的保障。

2、独特的天线设计使得plasma-wall几乎无反应,可获得高纯度的等离子体,从而合成高纯度金刚石薄膜。

3、独特的能够供给方式,功率:6KW ,35KW根据不同的微波功率,生长速度可控:5-50 μm/hr。

4、可用于沉积高品质单晶(single crystal diamodn/homoepitaxy growth)、多晶(polycrystalline diamond)、纳米晶(namocrystalline diamond);

5. 用我们的设备可以沉积大面积光学级金刚石薄膜(PCD for high power laser output window and high power microwave window):可达直径8英寸以上,厚度可达几个mm;

    也可以获得高纯度单晶金刚石(SCD),N含量可以达到ppm,ppb,甚至是无杂质无色透明单晶;

    也可以进行掺杂研究(for N-dopingP-dopingB-Doping as P-type or N-type semiconductors)

    还可以进行多种子同时沉积,进行大规模单晶金刚石生产(Multiple-seeds growth)。

该设备可用于工具级、热沉级、光学级、电子级大面积高品质金刚石薄膜的合成。欢迎新老客户咨询,本公司将为您的科研、生产量身推荐最适合的设备配置,提供更详细的工艺生长计划!

With our MPCVD system, you can grow single crystal diamond (SCD)/ monocrystal diamond which has the lowest inpurity. And you can also grow large polycrystalline diamond (PCD)for high power laser window or high power microwave window, the diameter ranges from 4 to 8’’ or even larger, and the thickness is from 1mm to several mm.

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