关键词：电子束蒸镀、金属膜、氧化膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、

              Qubit、 Evaporation system、超导铝结、Josephson junction

产地：欧洲；     型号：MEB550；   应用：制备金属膜、氧化膜薄膜

高真空电子束蒸发镀膜设备是量子器件制备中必不可少的仪器，用于制备各种高纯金属薄膜和氧化物薄膜。MEB500高真空电子束蒸发镀膜仪（HV E-beam evaporation system）得到全球科研工作者广泛使用和推崇，并且具有良好的声誉。利用上述配置，研究者可以制备各种高品质和高度可重复性Au, Ti, Pt, Pd, Al, SiO2, 铁磁薄膜材料等。目前包括中国科学院物理所、清华大学、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备；在国际上也获得了美国(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon）、英国（Glasgow  Univ）、德国（KIT Karlsruhe, Dresden  Univ）、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)、加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)、法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)、瑞士(ETH Zurich)、瑞典(Chalmers  Univ)、俄罗斯(SKOLKOVO)、意大利（STMicroelectronics）等国家的著名机构的高度认可。

蒸发腔体：450×550×550mm

真空系统：低温泵/TMP+ 叶片泵/干泵；

电子束蒸发源：6-15KW，6-8×15cc

Load lock预真空进样室：

真空系统：TMP+叶片泵/干泵，

样品台：可加载4英寸衬底

衬底3D转动

衬底倾斜：角度范围请咨询；

衬底旋转：20rpm.

衬底加热

衬底冷却

静态氧化

反应气体：两路反应气体+MFC

                    支持反应蒸镀和化学辅助离子束刻蚀

衬底清洗：

                   RF等离子体清洗，300W RF (13.56 MHz)

                   离子枪清洗：考夫曼离子源，Ar气路+ MFC 

石英晶振膜厚控制仪

全自动软件包，支持半自动和手动模式，支持远程网络操作和维护。

基础设施要求： 咨询我们！

典型用户：耶鲁大学、UCSB、普林斯顿大学、滑铁卢大学、法国科学研究中心（CNRS）、格拉斯哥大学、日本NTT、清华大学等，欢迎咨询！