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高真空电子束蒸发镀膜机(通用型)
发布日期:2021-03-11

关键词:电子束蒸镀、金属膜、氧化膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、

              Qubit、 Evaporation system、超导铝结、Josephson junction

 

产地:欧洲;     型号:MEB550;   应用:制备金属膜、氧化膜薄膜

   

高真空电子束蒸发镀膜设备是量子器件制备中必不可少的仪器,用于制备各种高纯金属薄膜和氧化物薄膜。MEB500高真空电子束蒸发镀膜仪(HV E-beam evaporation system)得到全球科研工作者广泛使用和推崇,并且具有良好的声誉。利用上述配置,研究者可以制备各种高品质和高度可重复性Au, Ti, Pt, Pd, Al, SiO2, 铁磁薄膜材料等。目前包括中国科学院物理所、清华大学、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备在国际上也获得了美国(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon)、英国Glasgow  Univ)、德国KIT Karlsruhe, Dresden  Univ)、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)瑞士(ETH Zurich)瑞典(Chalmers  Univ)俄罗斯(SKOLKOVO)意大利STMicroelectronics)等国家的著名机构的高度认可。

 

蒸发腔体:450×550×550mm

真空系统:低温泵/TMP+ 叶片泵/干泵;

电子束蒸发源:6-15KW,6-8×15cc

Load lock预真空进样室:

真空系统:TMP+叶片泵/干泵,

样品台:可加载4英寸衬底

衬底3D转动

衬底倾斜:角度范围请咨询;

衬底旋转:20rpm.

衬底加热

衬底冷却

静态氧化

反应气体:两路反应气体+MFC

                    支持反应蒸镀和化学辅助离子束刻蚀

衬底清洗:

                   RF等离子体清洗,300W RF (13.56 MHz)

                   离子枪清洗:考夫曼离子源,Ar气路+ MFC 

石英晶振膜厚控制仪

 

全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。

 

基础设施要求: 咨询我们!

典型用户:耶鲁大学、UCSB、普林斯顿大学、滑铁卢大学、法国科学研究中心(CNRS)、格拉斯哥大学、日本NTT、清华大学等,欢迎咨询!

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