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电子束蒸发镀膜系统用于金属薄膜沉积
发布日期:2021-03-11

 

关键词:热障层、红外波导、lift-off工艺、HMET晶体管、PHMET晶体管、

              欧姆接触、肖特接触、磁性材料、MEMS封装、约瑟夫森电路

 

 

 

 

 

 

 

 

 

用于金属薄膜沉积、金属化

 

6个坩埚分别为:Pd, NiCr, Au, Ge, Ti, Ni

 

最佳衬底大小为3英寸

 

 

主腔体采用扩散泵,LOAD LOCK采用分子泵

 

采用10kW电子束蒸发源

 

配备等离子体清洗衬底

 

全自动电脑控制、半自动和手动模式可用

 

支持远程维护和操作

 

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