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介电薄膜沉积专用电子束蒸镀设备
发布日期:2021-03-11

关键词:SiO2、AlN、Al2O3、介电膜、刻蚀、电子枪、

              离子枪、氧化铝、氮化铝、二氧化硅

 

 

  型号: MEB400S,  产地:欧洲    应用:沉积介电薄膜(SiO2, AlN, Al2O3等)

 

  • 用于介电质膜层沉积,例如SiO2,Si3N4,Al2O3

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  • 样品台双行星转动,可加载4英寸衬底

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  • 配备Load Lock和主腔体

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  • 真空系统:采用低温泵/分子泵+干泵

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  • 10kW电子束源,多枪

 

  • 样品台可加热

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  • 配备离子枪,可对样品进行清理和刻蚀

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  • 配备氩气、氮气气路和MFC

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  • 全自动电脑控制系统,半自动和手动可用

 支持远程维护、操作、监控

 

 典型用户:格拉斯哥大学

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