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金属膜/氧化膜专用磁控溅射系统(RHEED/等离子体清洗)
发布日期:2021-03-11

关键词:单层膜、多层膜、磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜

                连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、RHEED

 

型号:MP800S                产地:欧洲             应用:金属膜、非金属膜制备

 

 

圆柱形主腔体:电抛光不锈钢

         低温泵+干泵

 

          三个6’’ DC磁控靶源,最大可达8英寸;

          分别配备独立挡板,无交叉污染。

          RF加载到DC靶源可选,可用DC/RF。

          氩气和氮气气路可用

          4’’衬底加热单色光学高温计

          样品台冷却:水冷

          石英晶振监测(DC/RF模式下均可)

          衬底:RF刻蚀及偏压(13.56MHz,气冷)

LOAD LOCK (带自动传动手臂)

          分子泵+干泵

          全自动传动衬底

原位分析处理:RHEED (反射高能电子衍射)+等离子清洗/离子束清洗 Ion milling

 

控制单元:全自动电脑控制,半自动和手动模式可选;远程维护可用。

 

典型用户包括:格拉斯哥大学、法国波尔多第一大学、法国科学研究中心(CNRS)、CEA、加拿大滑铁卢大学等。欢迎联系我们索取详细资料

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