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阴极反应溅射镀膜系统
发布日期:2021-03-11

关键词:反应磁控溅射、氮化铝、AlN

 

 

应用:制备氮化铝薄膜、电极Al膜制备

 

真空泵:次级泵+低温泵

 

气体气路:Ar,N2,配带独立MFC

 

磁控阴极:3个4英寸

 

电      源:1.5kW 直流

 

靶      材:Ni, Cr, Au, Al, Ti, W, Cu.

 

衬底偏置:RF 300W

 

样品台:可接纳一个4英寸衬底

 

            衬底加热装置

 

预真空送样室

 

全自动、半自动、手动模式

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