关键词：反应磁控溅射、氮化铝、AlN

应用：制备氮化铝薄膜、电极Al膜制备

真空泵：次级泵+低温泵

气体气路：Ar，N2，配带独立MFC

磁控阴极：3个4英寸

电      源：1.5kW 直流

靶      材：Ni, Cr, Au, Al, Ti, W, Cu.

衬底偏置：RF 300W

样品台：可接纳一个4英寸衬底

            衬底加热装置

预真空送样室

全自动、半自动、手动模式