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多靶反应溅射镀膜系统(用于单层膜/多层膜制备 )
发布日期:2021-03-11

关键词:单层膜、多层膜、半导体、光电子学、光子学、微机电系统、MEMS、微流体技术、

                磁性膜、光学膜、金属膜、绝缘膜、半导体膜、共溅射

                             连续沉积、进口磁控溅射、SiO2、ZrO2、TiO2、DC靶、RF靶

 

型号:MP600S,  产地:欧洲 ,   应用:制备单层/多层金属薄膜。

多靶反应磁控溅射镀膜仪是微米纳米器件制备的必备设备,可用于制备单层/多层金属薄膜等,适用于半导体,光电子学,光子学,微机电系统(MEMS)和微流体技术等领域。

反应腔体:内径为600mm,高度300mm,采用电化学抛光不锈钢

真空系统:采用1500 l/s低温泵+15m3/h 干泵

                  采用薄膜真空计、潘宁/皮拉尼真空计

 

衬底尺寸:最大可加载4英寸衬底

                  采用电阻加热可达500℃

                  采用K型热电偶测温

磁控阴极:四个6英寸磁控阴极,

                  与样品台的距离手动可调(7-15cm)

                  每个阴极配备一个 圆柱形挡板,防止 污染

                  每个阴极配备一个电气阀

                  每个阴极都可以是直流或射频模式

阴极电源:一个300W 13.56MHz射频电源(可以升级到2kW)

                  射频转换开关可用于溅射或衬底清洗

                  一个2kW 直流电源

偏置电压:10V-300V可调

反应气路:分别为Ar、N2、O2气路,每个气路配备MFC

 

Load Lock:采用Al合金腔体,手动样品传动臂。

                     采用主腔体干泵抽气

 

控制系统:全自动控制,半自动和手动模式可用

        支持多级用户权限设置和管理
 
        支持设备远程操作、监控、诊断和维护
       
        系统自动报警及定位故障

 

若对我们的设备感兴趣,欢迎联系我们!

 

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