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直流磁控溅射镀膜系统
发布日期:2021-03-11

关键词:镀膜、金属膜、Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

       

 

可在导体或绝缘体上溅射任何薄膜

 

气路:Ar气路配搭MFC

 

阴极:3个4英寸直流磁控管,一个加强磁控管用于Ni,一个6英寸磁控源

 

靶材: Al, Ti, Cr, Ni, Cu, Au, Nb, W, Pd, Pt, Mo

 

直流电源:200mA-1A(1千瓦功率)

 

衬底偏置:等离子刻蚀,20-250W(RF )

 

样品台:可接纳4个4英寸衬底,衬底可旋转

 

真空泵:前级泵+低温泵

 

全自动、半自动、手动模式

 

支持远程维护和操作

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