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铌基超导结制备专用磁控溅射镀膜系统
发布日期:2021-03-11

关键词:多靶磁控溅射、共溅射、Co-sputter、金属膜、氧化膜、半导体膜、非金属膜、约瑟夫森结、

               超导、量子器件、量子比特、 Qubit、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、

 

           sputtering system、Josephson junction

 

设备型号:MP600S;    产地:欧洲;     应用:制备铌基超导结或溅射其他膜材

 

磁控溅射镀膜系统可以沉积各种金属、半导体、非金属薄膜,又特别适合用于超导量子结、约瑟夫森结等量子器件的制备,例如:超导Nb、NbN、NbTiN及其他材料等,

目前,包括中国科学院物理所、清华大学、哈尔滨工业大学、苏州医工所、长春光机所、上海酸盐研究所等单位均在使用相关设备在国际上也获得了美国(Yale  Univ, Princeton  Univ, UCSB, Chicago Univ, Raytheon)、英国Glasgow  Univ)、德国KIT Karlsruhe, Dresden  Univ)、日本(NTT, RIKEN, Tokyo  Univ)加拿大(Waterloo  Univ, Sherbrooke  Univ)法国 (CNRS, CEA, Thales Group, Grenoble, IEMN,  Univ Geneva)瑞士(ETH Zurich)瑞典(Chalmers  Univ)俄罗斯(SKOLKOVO)意大利STMicroelectronics)等国家的著名机构的高度认可。
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