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超高真空多腔体电子束蒸镀系统(MEB 550SL3)
发布日期:2018-10-31

资料下载:PLASSYS 约瑟夫森结制备系列系统(磁控溅射,电子束蒸镀).pdf[786KB]

资料下载:微波等离子体化学气相沉积系统、磁控溅射、电子束蒸镀、反应离子束刻蚀.pdf[903KB]

 

关键词:磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、镀膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、

                多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering system

                Evaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction

 

型号:MEB 550SL3      产地:欧洲       应用:约瑟夫森结(Al, Nb, NbN, NbTiN)

超高真空多腔体电子束蒸发镀膜仪

电子束蒸镀仪是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于蒸镀各种高纯金属薄膜,如Ti, Au, Ni, Cr, Al, Al2O3等。电子束蒸发沉积法可在同一蒸发沉积装置中安装多个坩埚,使得可以蒸发和沉积多种不同的高质量金属薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件,特别是在利用超导量子结来实现量子计算的实验研究中,Josephson结的制备最为关键:需要在非常干净的蒸镀腔里进行,而且需要在不同的角度上蒸镀两次,两次之间需要注入氧气进行金属氧化。所以样品台必须具有三维的旋转功能,同时,蒸镀腔内还需要有可以注射氧气及其他气体来实现清洁和氧化过程。

 

推荐配置:可以用于沉积Ti, Ni, Au, Cr, Al, Al2O3等金属及氧化物薄膜,目前全球主要超导量子实验室均使用该设备制备超导Al结(量子比特和约瑟夫森结)和量子器件,可以制备大面积、高度稳定性和可重复性超导结。更详细信息或资料,请咨询我们!

 

预处理腔:衬底旋转、倾斜(3D);干泵+ 分子泵; 真空度10-8 T

 

蒸发镀膜腔:电子枪6-15KW;

样品台:可加载4英寸衬底;

               衬底可加热到800℃

               衬底旋转、倾斜,

               倾斜精度和重复性优于0.1°(可升级)

真空泵系统:干泵 + 低温泵

                       真空度10-10T或10-11T

膜厚控制仪:频率分辨率10-4Hz或更高;

                      速率分辨率10-3nm/s;

                      厚度分辨率10-2nm

残余气体分析仪

反应蒸镀:氧气气路+MFC 

 

氧化腔体:静态/动态氧化

                  臭氧发生器/原子氧发生源/辉光放电;

                  卤素灯加热至最高200℃

                   残余气体分析仪

分子泵 + 干泵真空度<10-8 T

 

 

全自动软件包,支持半自动和手动模式,支持远程网络操作和维护。

 

典型用户:耶鲁大学、日本NTT、中科院下属研究所等

 

欢迎进一步咨询!

 

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