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超高真空三腔体电子束蒸镀设备
发布日期:2015-03-28

关键词:磁控溅射、电子束蒸镀、超高真空、金属膜、氧化膜、约瑟夫森结、超导、量子器件、量子比特、

                多腔体、Qubit、UHV、铌基超导、氮化铌、钛氮化铌、NbTiN、NbN、sputtering system

                Evaporation system、Nb-based superconductor、超导铝结、Josephson junction

 

型号:MEB 550S2      产地:欧洲;    应用:沉积Al、Ti、Ni、Au、W、Ag

 

 

磁控溅射和电子束蒸发镀膜一体机是纳米器件制备中必不可少的仪器,用于制备各种高纯金属薄膜和氧化物薄膜。开展量子计算机实验研究,如基于金刚石NV色心,离子阱,超导量子结,量子点电子自旋的研究,均需要蒸镀/溅镀各种高质量金属薄膜来制备量子器件。

配置概要:

UHV蒸发室:

腔体尺寸:直径550mm, 高度400mm,不锈钢腔体

真空系统:干泵35m3/h+1500l/s牛津仪器低温泵

   真空度:真空度可达3×10-9Torr

       坩埚:4×15cc,电动, 线性运动

固态电源:6KW,3-10 KV,最大600mA

 

UHV处理室:

腔体尺寸:300mm 直径、270mm高

真空系统:1500l/s Oxford instrument低温泵+爱德华兹干泵

最佳真空:3×10-9Torr

样品台尺寸:4英寸

样品台电动 可旋转(速率可达5rpm)、重复性优于0.1°

样品台电动可倾斜(0-340°),重复性和精度可达0.01°

氧化功能:静态氧化:气压高达100Torr

                  动态氧化:气压 可达5×10-2Torr

膜厚控制仪:频率分辨率10-5Hz

                      速率分辨率0.001nm/s

                      厚度分辨率0.01nm/s

样品台清洗/刻蚀功能

              离子枪-衬底距离25cm

               均匀性:±3%@3'',±6%@4''

 

Load Lock

腔体尺寸:长180mm, 宽140mm, 高65mm, 不锈钢腔体

全自动样品传送机械手

真空系统: 5m3/h爱德华兹干泵+240l/s分子泵

 最佳真空:可达3×10-7Torr

全自动电脑 控制、半自动和手动模式可用

 

代表用户:数个全球著名超导及量子器件研究实验室。

 

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